美国Harrick HVC-MRA-5 拉曼反应池，拉曼高温反应池，拉曼光谱池，拉曼池，高温反应室用于拉曼显微镜，拉曼光谱仪，拉曼光谱仪反应池，原位拉曼样品池，气固相拉曼原位反应池，原位高温拉曼反应装置，最高操作压力到3.44MPa
HARRICK CHC-CHA-3红外低温池，低温反应池，低温反应室, CHC-VUV-3紫外漫反射低温反应室，红外漫反射附件，用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量，适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应
Harrick HVC-MRA-5 拉曼池，拉曼光谱池，拉曼高温反应池，拉曼池，高温反应室用于拉曼显微镜，拉曼光谱仪，拉曼光谱仪反应池，原位拉曼样品池，气固相拉曼原位反应池，原位高温拉曼反应装置，在受控环境条件下对粉末进行拉曼测量
