Harrick 低温反应室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作温度范围-150°C to 600°C（真空下），非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用
HARRICK CHC-CHA-3红外低温池，低温反应池，低温反应室, CHC-VUV-3紫外漫反射低温反应室，红外漫反射附件，用于在-150°C至600°C对粉末进行漫反射测量，适用于多相催化、气固相互作用、光化学反应
