漫反射光谱是检测粗糙材料表面变化的一种非常敏感的方法。它对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。此低温反应室非常适合在精心变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量,并与 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光谱的祈祷万只龙头附件结合使用。
特征
设计用于从高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低温。
提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
包括
反应室
低压加热盒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR 配置)
带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的圆顶(UV-Vis-NIR 配置)
| MODEL NO. | NAME | |
|---|---|---|
| CHC-CHA-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (FTIR) | |
| CHC-VUV-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (UV-Vis-NIR) |
