漫反射光谱学是一种非常敏感的方法，用于检测粗糙材料表面的变化。对于具有高比表面积的粉末特别有效。这使得漫反射在研究异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制方面非常宝贵。这款低温反应室非常适合在精确可变温度和压力下进行此类研究。CHC-CHA-5低温漫反射附件可在广泛的受控温度和压力范围内进行漫反射测量，并与Praying Mantis附件一起用于FT-IR和UV-Vis漫反射光谱学。
CHC-CHA-5低温漫反射附件特点：
– 设计用于从高真空（133微帕或10-6托）到133千帕（1千托）以及在-150°C至600°C（真空下）的温度范围内进行研究。
– 提供三个进出口端口，用于抽空反应室和引入气体。
– 采用耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
CHC-CHA-5低温漫反射附件包括：
– 反应室
– 低压加热棒。
– K型热电偶。
– FKM氟橡胶（相当于维顿）O型圈。
– 样品包装工具和泄漏托盘。
– 带有两个KBr窗户和一个玻璃观察窗的圆顶（FTIR配置）
– 带有两个SiO2窗户和一个玻璃观察窗的圆顶（UV-Vis-NIR配置）
