漫反射光谱是一种用于检测粗糙材料表面变化的非常灵敏的方法，尤其适用于高比表面积的粉末样品。这使得漫反射光谱成为研究非均相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的宝贵工具。此低温反应腔非常适合在精确实时变化的温度和压力下进行此类研究，可在广泛的温控和压控范围内进行漫反射测量，并与Praying Mantis附件配合，用于FT-IR和UV-Vis漫反射光谱分析。
Harrick CHC-CHA-5低温反应室主要特性
设计用于高真空至高压研究：工作压力范围从133 μPa 至 133 kPa，温度范围从 -150°C 至 600°C（在真空条件下）。
提供三个进气/出气端口，用于反应腔抽真空及引入气体。
采用耐化学腐蚀的316不锈钢制造。
Harrick CHC-CHA-5低温反应室包含内容
反应腔主体
低压加热筒
K型热电偶
FKM氟橡胶（相当于Viton®）O型圈
样品填装工具与溢料托盘
带两片KBr窗片及一片玻璃观察窗的顶盖（FTIR配置）
带两片SiO₂窗片及一片玻璃观察窗的顶盖（UV-Vis-NIR配置）
