Harrick 低温反应室 CHC-CHA-5,CHC-VUV-5, 工作温度范围-150°C to 600°C(真空下),非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用

Harrick 低温反应室

漫反射光谱是一种非常灵敏的方法,用于检测粗糙材料表面上的变化。它对表面积较大的粉末特别有效。这使得漫反射在研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面非常有价值。Harrick 低温反应室非常适合在精确控制的温度和压力下进行此类研究。Harrick 低温反应室允许在广泛的控制温度和压力下进行漫反射测量,并与用于傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis)的Praying Mantis附件配合使用。

Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers

Harrick 低温反应室标准配置:

» 反应室。
» 低电压加热元件。
» K 型热电偶。
» 样品包装工具和溢出托盘。
» 带有两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶(FTIR 配置)。
» 带有两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶(UV-Vis-NIR 配置)。

搭配组件:

(1)Praying Mantis 漫反射装置

Praying Mantis™ Diffuse Reflection Accessory

(2)Temperature controller 温控仪ATK-024-6

Temperature Controller

 

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