Harrick 高温反应室
Harrick 高温反应室特别适用于具有高表面积的粉末。这使得漫反射成为研究多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的宝贵工具。Harrick 高温反应室非常适合在精确控制的温度和压力下进行这些研究。HVC-DRM-5高温反应室应用允许在控制的压力和广泛的温度范围内进行漫反射（DRIFTS）光谱测量。它与Praying Mantis™附件一起用于FT-IR和UV-VIS漫反射光谱学。
Harrick 高温反应室特点：
设计用于从高真空（133 μPa或10-6 torr）到133 kPa（1 ktorr）使用KBr窗或1.5 MPa（11.3 ktorr）使用ZnSe窗的操作。
在真空条件下可达到910°C的温度。
可选高压穹顶结构，适用于高达3.44 MPa（25.8 ktorr）的操作。
提供三个进出口端口，用于抽真空和引入气体。
采用耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
可选择Silcotek/Restek惰性涂层，提供更高的惰性和耐腐蚀性。
可选冷却装置，适用于使用冷却器或循环器进行适度冷却或加热。
提供适用于电化学的适配器，支持两、三或四电极配置。
可提供用于微光谱学应用（包括拉曼）的替代窗组件。
Harrick 高温反应室包括：
反应室。
低压加热芯。
K型热电偶。
FKM氟橡胶（等同于Viton）O形圈。
样品装填工具和溢出托盘。
穹顶结带有两个KBr或ZnSe窗口和一个玻璃观察窗（FTIR配置）。
穹顶带有两个SiO2窗口和一个玻璃观察窗（UV-Vis-NIR配置）。
（1）Praying Mantis 漫反射装置
（2）Temperature controller 温控仪ATK-024-6
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