Harrick HVC-DRM-5高温反应室特别适用于具有高比表面积的粉末样品的研究，这使得漫反射光谱成为研究非均相催化、气固相互作用、光化学反应及氧化机制的重要工具。Harrick HVC-DRM-5高温反应室非常适合在精确控制的温度与压力下进行此类研究，能在可控压力及宽泛温度范围内实现漫反射光谱测量。它需与 Praying Mantis™ 附件配合，用于 FT-IR 及 UV-VIS 漫反射光谱分析。另有适用于微量样品及拉曼光谱分析的型号可选。
Harrick HVC-DRM-5高温反应室主要特性
专为高真空至高压环境设计：搭配 KBr 窗片 时，工作范围为 133 μPa 至 133 kPa；搭配 ZnSe 窗片 时，可承受最高 1.5 MPa 压力。
可实现最高 910°C 的操作温度（真空条件下）。
通过可选高压顶盖，可轻松适配最高 3.44 MPa 的高压操作。
提供 三个 进气/出气端口，用于反应腔抽真空及通入气体。
采用耐化学腐蚀的 316 不锈钢 制造。
可选 Silcotek/Restek 惰性涂层，以获得更强的化学惰性和耐腐蚀性。
可选 冷却套件，配合制冷机或循环器实现中度冷却或加热。
提供 双电极、三电极或四电极 配置的电化学适配器。
提供适用于 显微光谱（包括拉曼光谱） 应用的其他窗片组件。
Harrick HVC-DRM-5高温反应室包含内容：
反应腔主体。
低压加热筒。
K型热电偶。
FKM氟橡胶（相当于Viton®品牌）O型圈。
样品填装工具与溢料托盘。
带两片KBr或ZnSe窗片及一片玻璃观察窗的顶盖（适用于FTIR光谱配置）。
带两片SiO₂窗片及一片玻璃观察窗的顶盖（适用于UV-Vis-NIR光谱配置）。
