Harrick scientific WafIR ATR晶圆检查器、Harrick水平ATR附件
WafIR是一种水平ATR附件，用于分析双面抛光晶片一面上的单层和其他薄涂层。它以45°入射角的硅晶体为特征，将光耦合进和耦合出晶片。WafIR包括一个带有压力垫的压力施加器，设计用于最小接触面积的最佳接触，并且接触面积在测量区域之外。压力施加器包括一个滑动离合器，以限制施加到样品上的总力，并与扭矩扳手兼容，以实现可重复性。WafIR是全封闭的，可快速吹扫，并与大多数FTIR光谱仪兼容。
特征
- 无障碍的水平取样表面可容纳直径从52 x 10毫米到203毫米(8英寸)的晶片。
- 非接触取样法；与耦合晶体的接触在测量区域之外。
- 由于多次反射，灵敏度高。
- 为0.770 mm厚的晶片提供了来自涂层表面的33次反射。
- 固定45°入射角。
- 可替换硅耦合晶体。
- 内置滑动离合器限制施加到样品上的总力。
- 独特的压力施加器，带衬垫，与样品接触最少。
- 易于校准和使用。
- PermaPurge用于快速样品交换，无需中断吹扫。
包含
- 硅耦合晶体波导。
- 指定光谱仪的配套硬件。
