Harrick低温反应室CHC-CHA-5、Harrick CHC-VUV-5
工作温度范围-150°C to 600°C（真空下），非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用
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Harrick低温反应室
漫反射光谱是一种非常灵敏的方法，用于检测粗糙材料表面上的变化。它对表面积较大的粉末特别有效。这使得漫反射在研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面非常有价值。Harrick 低温反应室非常适合在精确控制的温度和压力下进行此类研究。Harrick低温反应室允许在广泛的控制温度和压力下进行漫反射测量，并与用于傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis）的Praying Mantis附件配合使用。
Harrick 低温反应室标准配置：
» 反应室。
» 低电压加热元件。
» K 型热电偶。
» 样品包装工具和溢出托盘。
» 带有两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶（FTIR 配置）。
» 带有两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶（UV-Vis-NIR 配置）。
搭配组件：
（1）Praying Mantis 漫反射装置
（2）Temperature controller 温控仪ATK-024-6
