瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列

瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列

通过UV-EXP系列，idonus提供了一种基于高功率LED和高级均化光学技术的创新UV照明系统。该产品线适用于光刻胶曝光（UV-LED光刻和固化），并适用于MEMS、微流体学、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种基材和光刻胶。我们的标准UV照明产品系列满足了宽度可达300毫米（11.8英寸）的掩膜和晶圆的光刻需求。

UV-LED曝光的优点

idonus UV-LED曝光系统

idonus推出了一整套UV-LED曝光产品。我们的系统结合了市场上最有效的UV-LED与高等级微透镜阵列，全部在内部完成组装和控制。我们的设计采用了完全远心光学系统，在整个曝光区域内提供可重复和均匀的照明条件，即高度均匀且稳定的强度，并具有极小的发散角。这种先进的光学系统确保了整个基材的完美均匀曝光，生成具有直侧壁的固化光刻胶，并实现了具有微米级关键尺寸的图形精确微结构化。

idonus UV-EXP的性能

UV-LED曝光系统提供多种标准配置，并可以通过多种选项和变体（如单一或混合波长）进行定制。作为特殊设备的制造商，idonus还可以根据客户的规格要求开发完全定制的设备（例如，不同的曝光区域、适配的设备外壳）。我们的产品主要特点见“标准UV-LED曝光系统”表格。
idonus标准UV-LED曝光系统
型号 波长 有效曝光区 辐照度 Ee 非均匀性 C * αFWHM WD ** 外部尺寸，mm³
UV-LAB100R 365 nm Ø 100 mm — 5% ±2° 250 mm 250x300x670
UV-EXP150R 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm Ø 150 mm 50 mW/cm² 3% ±1.8° 350 mm 1000x480x330
UV-EXP150S 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm 150×150 mm² 50 mW/cm² 3% ±1.8° 300 mm 960x500x420
UV-EXP200R 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm Ø 200 mm 30 mW/cm² 3% ±1.4° 400 mm 1170x570x530
UV-EXP200S 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm 200×200 mm² 30 mW/cm² 3% ±1.4° 400 mm 1170x570x530
UV-EXP300S-1LE 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm 300×300 mm² 17 mW/cm² 3% ±1.0° 300 mm 1270x715x700
UV-EXP300S-3LE 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm 300×300 mm² 50 mW/cm²（3 个LED） 3% ±1.0° 300 mm 1270x715x700
UV-EXP600S 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm 600×600 mm² 30 mW/cm²（多个LED） 3% ±2.0° 300 mm              ***
*非均匀性 (C)：光强度分布的最大偏差百分比。 **WD：工作距离。

询价采购瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列

请用微信扫描下方二维码或手动添加微信号2351992198

瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列

每天我们通过设于欧洲、美国、香港、上海的办公室，在世界各地引进成套设备与技术，采购备品备件，将全球工业产品和技术带到中国，为中国客户提供技术咨询，产品应用和售后培训服务。原厂直接采购，一手货源，拼单发货，最低价格，最短交期，让客户进口采购变得省钱、省时、省心。

Next

业务范围

我们为各行业客户提供专业的进口采购、付汇结算、报关报检、仓储物流的数字化采购解决方案。

Next

服务优势

行业领先的公司采用我们的平台和服务，通过我们全球多个办事处采购企业发展所需的物资，缩短供应链货期，以提高效率和控制成本。

Next

联系瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列

微信扫描下方二维码或手动添加微信号2351992198