荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner ,精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆

荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner

设备简介： 本设备可以用于精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆。可以放于真空腔体用于PVD工艺。沉积后，夹盘可以打开，晶圆和掩膜可以不破坏的分离，并且掩膜板可以重复利用。夹盘可以用于任何基底尺寸以满足用户的要求，并且我们也可以提供精确和经济的由金属、硅、玻璃、陶瓷等制造的荫罩掩膜。

产品型号：SMA-100，SMA-150，SMA-200 晶圆和荫罩尺寸：100mm,150mm,200mm，取决于设备的配置样品台特征： X和Y方向范围：步进10μm，灵敏度2μm Z方向范围：步进10μm，灵敏度2μm 旋转角度：360°不间断倾斜：工厂校准，工程师手动调节

对准精度（溅射后）线性对准：典型值6μm，最大值10μm 旋转对准：0.001°到0.009°

夹盘晶圆尺寸：100mm,150mm,200mm 夹盘材料：阳极氧化铝或非阳极氧化铝夹盘厚度：20mm取决于晶圆和掩膜的厚度

荫罩掩膜（客户可定制荫罩掩膜）材料：硅、石英、玻璃、金属、陶瓷仪器尺寸：500mm x 250mm 安装需求：用于对准过程中用来观察的显微镜、真空注：可以根据用户的需求进行定制。

优点： 精确和可重建性的PVD涂层构建用于PVD的减震夹盘易用、对晶圆无损夹持机构由于真空夹持，可以在对准的过程简单操作可以用于不同的晶圆尺寸不需要安装低运行成本

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