美国 ANGSTROM ENGINEERING 线性溅射 PVD 系统

线性溅射 PVD 系统

该系列线性溅射 PVD 系统可在大型基板上进行高产能生产，可无缝集成到更大的生产工具集群中，并提供超强均匀性。 使用 Angstrom Engineering 的线性溅射 PVD 系统，可以在显示器、光伏和半导体应用的大面积面板上加工半导体或金属薄膜。可解决研究人员在大面积或大量基底上进行溅射时所面临的危险。从气体流量和等离子体管理到磁控管的均匀性和温度控制，Angstrom 的线性溅射 PVD 系统可彻底改变工作流程，实现比以往更高产能的生产。 Rectangular sputter cathode with argon plasma 将产品推向市场的工具——在非常大的基底上制作设备，一次运行可堆叠多层，且非常均匀，材料的利用率非常高。

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美国 ANGSTROM ENGINEERING 线性溅射 PVD 系统

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