EVG6200 NT 掩模对准器是一种多功能工具，适用于光学双面光刻和最大 200 mm 的晶圆尺寸。®
EVG6200 NT 以其自动化灵活性和可靠性而闻名，在最小的占地面积上提供最先进的掩模对准技术，并结合了最大的通量、先进的对准功能和优化的总拥有成本。用户友好的软件、最短的掩模和工具更换时间以及高效的全球服务和支持，使其成为任何制造环境的理想解决方案。EVG6200 NT 或全封装的 EVG6200 NT Gen2 掩模对准系统提供半自动或自动配置，并配备集成隔振功能，可在各种应用中实现出色的曝光效果，例如薄型和厚型光刻胶的曝光、深腔和类似形貌的图案化，以及化合物半导体等薄而易碎材料的加工。此外，EVG 专有的 SmartNIL 技术在半自动和全自动系统配置上均受支持。
特征
- 晶圆/基板尺寸从 200 mm/8 英寸不等
- 支持光刻工艺多功能性的系统设计
- 首次打印模式下吞吐量高达 180 WPH，自动对齐模式下高达 140 WPH
- 易碎、薄或翘曲的晶圆处理多种尺寸的晶圆，转换时间短
- 使用接近垫片实现自动非接触式楔块补偿序列
- 自动原点功能，用于对齐键的精确居中
- 具有实时偏移校正功能的动态对准功能
- 支持最新的 UV-LED 技术
- 返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
- 自动化系统上的手动基板加载能力
- 可从半自动版本现场升级到全自动版本
- 最大限度地减少系统占用空间和设施要求
- 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方、可分配的访问权限、不同的用户界面语言）
- 先进的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性
- 敏捷加工和转换重新加工
- 远程技术支持和SECS/GEM兼容性
- 桌面或带防振花岗岩台面的独立版本
- 其他功能：
