EBIS （Electron Beam Ion Source）电子离子源

两个汝铁硼永磁环提供压缩电子束的磁场，这些将被安装在真空室中为离子源提供烤焙，

磁场强度：400mT

阱深：60mm

电子能量：最高20kev

最大束流：200mA