DonadonSDD SCD 爆破片、NS NanoScored系列爆裂盘、倒置爆破片、DonadonSDD爆破片、进口代理DonadonSDD
DonadonSDD SCD 爆破片
SCD rupture discs
DonadonSDD SCD 爆破片规格参数
| 项目 | 说明 |
|---|---|
| 型号（Model） | SCD |
| 材料（Materials） | 不锈钢、201合金、400合金、600合金、625合金、C276合金、钛 |
| 公称尺寸（Dimensions） | DN 1”（25）– DN 36”（900） |
| 爆破压力（Rupture Pressure） | 2 bar g（30 psi g）– 413 bar g（6000 psi g），取决于材料和直径 |
| Kr 值（KRgl） | 1.33 |
| 爆破公差（Tolerance） | ±5% 至 ±20% |
| 工作温度（Operating Temperature） | –196 °C 至 600 °C |
| 工作压力比（Operating Margin） | 可达到 85% |
| 碎片产生（Fragmentation） | 无 |
| 阀下安装（Use Under Valve） | 可 |
| 耐腐蚀性（Corrosion Resistance） | 非常好 |
| 衬里（Linings） | 可选 |
| 夹持器 / 爆破片座（Container） | HI/A、HI/P、HI/F、HTC |
| 爆破传感器（Rupture Sensor） | 电气式、磁性、感应式、光学式 |
| ASME 认证（UD STAMP） | 可提供 |
| PED 认证（CE STAMP） | 可提供 |
| ATEX 认证（EX II 2 GD） | 可提供 |
使用NS Nanoscored技术制造的SCD爆破片，其特点是具有微刻痕的校准段，在爆破时以瓣片的形式打开，且刻痕数量为4、6个或更多的径向刻痕。
这种设计有助于更好地打开爆破片，减少瓣片脱落的风险。这使得DonadonSDD SCD爆破片特别适用于高爆破压力的应用。它们可用于气体和液体的传输，且在循环和脉动的工作条件下也能保持安全边际不受影响。
SCD爆破片在几毫秒内对过高压力做出反应，并且没有碎裂现象。
它们特别适用于压力释放阀的保护。DonadonSDD SCD爆破片可实现工作压力与爆破压力之比达到85%，并且具有非常好的耐腐蚀性。通过PTFE衬里，腐蚀抗性可以进一步增强。
此外，SCD爆破片在许多情况下可以承受绝对真空条件，无需额外支撑。
DonadonSDD NS NanoScored系列破裂盘
DonadonSDD推出了全新的NS NanoScored系列爆裂盘，这是该公司突破性技术的进一步发展成果。DonadonSDD凭借这种创新的NS NanoScored爆裂盘制造技术，已经获得了美国专利和意大利专利。
NS Nanoscored系列爆破片完全由金属制成，适用于各种应用场合。该系列爆破片包括像SCD爆破片那样的拉伸型爆破片（<#>正向作用型），以及像SCR爆破片（花瓣式结构）或Y90、KRD爆破片那样的压缩型爆破片（<#>反向屈曲型）。
DonadonSDD开发出的这项新的制造技术，使得破裂盘能够按照如下方式来制造：
- 完全由金属材质构成的产品（不锈钢、镍、因科镍尔合金、蒙乃尔合金、哈斯泰洛伊合金、钛、钽）
- 直径范围齐全，从DN 1/2英寸（15）到DN 36英寸（900）皆有。
- 由于工具不会发生任何磨损，因此完全具备可重复性。
- 即使面对较高的破裂压力，也具备抗碎裂的能力。
- 无需任何支撑结构即可抵抗绝对真空环境。
- 其最大的特点就是设计上的高度灵活性。
- 对于爆破压力低于0.5巴尔戈（7磅/平方英寸戈），以及DN 1”1/2（40）尺寸的管道而言，也同样适用这一规定。
- 在所有破裂压力下都能保持高精度。
- 根据客户的要求，降低了材料的抗破裂性能。
- 适用于插入标准型或卫生型（三夹式）碟形支架中。
DonadonSDD开发的新制造技术使得使用厚度很低的材料来制造带有刻痕的爆破盘也成为可能（基本上任何工业上可获得的材料厚度都适用于这种制造工艺），从而确保了产品的高可靠性和严格的尺寸精度。因此，现在能够实现比传统方法更低爆破压力的产品了。
