用于沉积过程控制的新型电子单元。同时操作两个独立的离子源/腔室。 DPC10 沉积过程控制器是一种先进且完整的电子设备，专为物理气相沉积过程控制而设计。DPC10 监测和控制薄膜沉积的速率和厚度。沉积的速率和厚度是根据放置在工艺室中的石英的频率变化计算得出的。用户编程的设备可以精确且可重复的方式控制沉积过程。