ALLRESIST GmbH AR-P 3110 Photoresist 1000ml 光刻胶 AR

ALLRESIST GmbH AR-P 3110 Photoresist 1000ml 光刻胶 AR-P 3110 1000ml

Mask making, optical applications Properties / Resist：28% Viscosity (25 °C)：12mPa×s Film thickness at 4000 rpm（Semitec CPS 20, uncovered chuck, 2“ Si-wafer）：1000nm Film thickness at 6000 - 2000 rpm：800 - 1400nm Flash point：42°C Filtration：0.2μm Storage at temperatures：10 - 18°C
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