ALLRESIST GmbH AR-P 3120 Photoresist 1000ml 光刻胶 AR

ALLRESIST GmbH AR-P 3120 Photoresist 1000ml 光刻胶 AR-P 3120 1000ml

Mask making, optical applications Properties / Resist：AR-P 3120 Solids content：20% Viscosity (25 °C)：5mPa×s Film thickness at 4000 rpm（Semitec CPS 20, uncovered chuck, 2“ Si-wafer）：550nm Film thickness at 6000 - 2000 rpm：450 - 760nm Flash point：42°C Filtration：0.2μm Storage at temperatures：10 - 18°C
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