德国CrysTec GmbH 半导体材料硅/锗晶片和衬底

半导体材料硅/锗晶片和衬底

  • 基础半导体(硅、锗)和半导体化合物(例如GaAs、GaP、InP、InSb、CdTe、ZnSe…)
  • 标准晶片和预制衬底直接从库存供应,也可单独购买
  • 可按要求提供特殊形状的晶体和非标准性能

 

半导体材料 硅标准产品:

取向:(100)(111)

直径:2英寸至6英寸

表面:抛光/刻蚀

也可提供即用于外延生长的衬底,例如10 x 10 毫米²

可按需提供表面涂层(氧化物、氮化物、金属)

其他尺寸和规格也可提供

半导体材料 硅性质:

结构:立方晶体 晶格常数:0.543 纳米 密度:2.329 克/立方厘米 熔点:1412°C 带隙:1.14 电子伏特

生长方法:Czochralski法 悬浮区域法

掺杂剂:n-磷 n-砷 n-锑 p-硼

电阻率:1-10 欧姆厘米 大于10 千欧姆厘米

 

半导体材料锗标准产品:

取向:(100)(111)

直径:2英寸至4英寸

表面:抛光/刻蚀

也可提供即用于外延生长的衬底,例如10 x 10 毫米²

也可以提供其他尺寸和规格

半导体材料锗性质

结构:立方晶体 晶格常数:0.565 纳米 密度:5.323 克/立方厘米 熔点:937°C 带隙:0.67 电子伏特

生长方法:Czochralski法

掺杂剂:n-锑 p-镓 无掺杂

电阻率:1-10 欧姆厘米 大于30 欧姆厘米


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