Creative Design Engineering,高达8英寸 ResMap 178,CDE四点探针电阻仪

CDE ResMap 178 8英寸台式四探针方块电阻测试仪

ResMap 178整机外观

产品概述

ResMap 178是美国CDE(Creative Design Engineering)推出的台式手动晶圆四探针方块电阻扫描测试仪,支持2~8英寸晶圆手动上料,凭借0.5%测量精度、超高静态/动态重复精度,成为半导体、光伏、导电薄膜研发与量产质控的标准设备。设备可精准测量薄膜方块电阻、电阻率与膜厚,支持全域扫描生成2D/3D阻值分布图,所有测量数据可导出Excel进行二次分析。

核心技术参数

参数项目规格参数
设备型号ResMap 178
设备类型台式桌面机型
晶圆上料方式手动装载
适配晶圆尺寸2英寸 ~ 8英寸圆形晶圆
微型洁净环境无标配
探针自动切换装置无标配
晶圆对准模组无标配
整机外形尺寸12英寸 × 19英寸 × 10英寸
方块电阻测量量程1mΩ/□ ~ 10MΩ/□(毫欧/方 ~ 兆欧/方)
测量精度±0.5%
静态测量重复性±0.02%
动态扫描重复性±0.1%

产品核心优势

  • 超高测量稳定性:静态重复精度低至0.02%,动态扫描重复精度0.1%,长期测量数据无漂移,满足严苛工艺管控标准;
  • 宽量程全覆盖:从低阻金属薄膜到高阻半导体薄膜全量程覆盖,单台适配镀膜、扩散、ITO、光伏电极等多工艺;
  • 紧凑型台式设计:无需自动上下料机构,体积小巧,实验室、小批量产线均可灵活部署,使用门槛低;
  • 专业晶圆测绘功能:支持单点测量、线扫描、全域面扫描,输出二维等高图、三维阻值分布图、直方图,直观呈现薄膜均匀性;
  • 便捷数据导出:全部测量数据兼容Excel导出,支持自定义测量点位、扫描步长,最小扫描步长0.1mm;
  • 晶圆边缘精准测量:内置1.5mm晶圆边缘修正算法,靠近片缘区域也可获取稳定可靠的阻值数据。

典型应用场景

  • 半导体晶圆:离子注入、扩散工艺方块电阻均匀性检测;
  • 光电显示行业:ITO、AZO透明导电薄膜全域扫描测试;
  • 光伏产业:硅片发射极、钝化层、金属电极电阻率表征;
  • 科研实验室:各类导电薄膜、金属镀层、纳米材料电学性能测试。

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