Novascan紫外线臭氧原子清洁表面和热紫外线臭氧清洁系统

消除苛刻的等离子体，酸，化学蚀刻，以实现亲水性原子清洁表面，UV臭氧清洁晶圆，玻璃，硅，UV键，氧化，清洁SEM TEMAFM样品和探针，键合PDMS，幻灯片盖等。

PSD, PSDP和热系列紫外线臭氧清洁剂:用于Átomically清洁表面，紫外线氧化，紫外线杀菌和紫外线热处理 介绍:PSD, PSDP和热系列紫外臭氧清洗机 Novascan的UV - UV臭氧清洗剂广泛应用于工业，生产和学术实验室，用于UV清洁半导体晶圆，制造过程中的UV清洁LCD表面，去除和去除光刻胶，改善表面润湿性，UV清洁AFM探针/尖端，UV清洁SEM和TEM样品，UV聚合物活化，PDMS/玻璃微流控装置的组装/粘合，UV清洁玻璃和许多其他UV臭氧清洁和氧化应用。(以下是典型应用的列表。) Novascan UV臭氧清洁剂已被证明是非常有效的非酸性，干燥，非破坏性的原子清洁和去除有机污染物使用强烈的185 nm和254 nm紫外线。在氧气存在的情况下，185线产生臭氧，而254线激发表面的有机分子。这种组合驱动了有机污染物的快速破坏和大量减少。 为了进一步加强处理，PSDP-UVT紫外线臭氧清洁剂利用紫外线臭氧和热阶段，通过提高样品表面的能量状态，并通过驱动可以阻止氧化的湿度层，以达到更积极的效果。 如下图所示，AFM用于记录使用简单的室内空气作为氧气源(纯氧气可用于更可控和更积极的处理)的暴露时间对厚有机污染物的去除。此外，接触角实验表明，紫外线臭氧处理后表面润湿性显著改善。

阅读更多关于: 案例研究1:“新”玻片和盖盖表面通常在开箱后不干净。使用Novascan UV臭氧清洁剂，只需室内空气，即可轻松快速地将表面清洁到原子水平。 Wetability of a new glass coverslip before UV Ozone cleaner treatment

Wetability of a new glass coverslip after UV Ozone Cleaner treatment

案例研究2:使用NovascanUV臭氧清洗机进行原子清洗前后受污染玻璃载玻片表面的AFM研究(注意，最后一张AFM图像中的数据是自动缩放的，以显示玻璃颗粒)

Atomic Force Microscope image of a contaminated glass microscope slide coverslip prior to UV Ozone cleaning

Atomic Force Microscope image of a contaminated glass microscope slide coverslip after 10 minutes UV Ozone cleaning

Atomic Force Microscope image of a contaminated glass microscope slide coverslip after 20 minutes UV Ozone cleaning

Novascan紫外线臭氧清洁剂:常用材料

Novascan紫外线臭氧清洁剂:常用应用

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