Thermionics FHC-275-1WC AP214真空大电流电气馈通件
Thermionics FHC-275-1WC AP214真空大电流电气馈通件
FHC 系列大电流电气馈通件
这些馈通件为真空室提供大电流路径。导体由 OFE 铜制成，提供水冷和实心导体型号。
- 最大电流：600 A1,600 A（水冷）
- 最大电压：3,000 V（低于 10-4托尔）
- 2.75“ 外径法兰
- 温度范围：-200°C 至 450°C
- 需要 CMC-150 连接器
FHV 系列高压电气馈通装置
FHV 系列馈入装置提供对真空室的高压通道。它们包括单导体或双导体型号，带有配接外部连接器。
| 型 |
法兰外径 |
导体 |
最大电压 |
最大电流 |
| FHV.5-133-2 |
1.33 " OD |
2 |
500 伏直流电 |
10A |
| FHV3-133-2 |
1.33 "OD |
2 |
3,000 伏直流电 |
15A |
* 这些电压额定值为 10-4 Torr
Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪通过高效利用空间，实现了四种或更多不同材料的复杂共沉积工艺和共蒸发。
Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪独特的模块化磁性设计能够更加高效地生成电子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 扫描技术可以消除隧道效应和源材料喷发问题。插入式发射器组件和扫描线圈组件使得蒸发源更易于维护。
Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪具备简单的灯丝校准、更高效的电子准直、最小化灯丝变形以及消除电子试验的优点，非常适合用于共蒸发！
满足专利：4,835,789；4,891,291；4,947,404
Hanks Hydra Static系列多坩埚电子枪主要特征：
· 可同时操作六（6）种不同材料（可根据要求提供其他坩埚设计）
· 全金属密封，完全兼容超高真空（UHV），基底压力测量值：2×10^-11 Torr
· Hydra™ 设计消除了相邻源之间的相互作用
· 专利磁性设计允许源头靠近，实现均匀涂层和材料相互作用
· 每个
坩埚源都独立水冷，以防止蒸汽积聚
· 每个源坩埚有独立的扫描线圈，确保每个源的独立操作完整性，消除相邻源的串扰干扰
· 可拆卸坩埚烟囱设计，方便清理沉积物
· 水冷发射器基板和坩埚
· 提供10kW或15kW选项
· 坩埚容量：10cc、15cc、40cc（可根据要求提供定制尺寸）
· 270°光束偏转，灯丝外壳隔离任何颗粒暴露
· 动态坩埚设计可选
· 易于拆卸的发射器组件设计
· Thermionics的Hyper-Unimelt扫频设计（最佳低速或高速控制）
· 提供水平和垂直源法兰安装设计
· 消除光束弯曲
· UHV级扫描线圈随源头提供（200 Hz）
· 消除极片
· 简单的灯丝校准
· 更高效的电子准直
· 最小灯丝变形
· 消除电子尾巴
· 完全封闭的发射器组件可防止颗粒积聚
· 每个源独立水冷
· 设计消除串扰干扰
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