产品概述
Beam Imaging Solutions（BIS） 提供两种类型的 离子枪系统。每套离子枪系统均包含以下组件：
散热器（Heat Sink）
加速与聚焦系统
垂直偏转极板
6 英寸长速度过滤器
所有组件均安装在真空壳体内，并配有法兰以便安装到客户设备上。护环控制单元可安装在标准 19 英寸机架面板中。如有需要，可订制特殊法兰和额外接口。
当离子枪需要配置束流减速器时，将提供一个适配法兰（型号 G-1-D 和 G-2-D 离子枪）。
此外，Beam Imaging Solutions 还为上述离子枪系统提供 E 系列控制单元，其中包含：
离子枪运行所需的全部电源
离子源冷却单元
真空计控制系统
所有离子束组件也可单独购买或作为完整套件提供（包括离子源、散热器、速度过滤器、提取与聚焦透镜系统）。这些完整套件被称为 Ion Beam Kit（离子束组件套装）。
| 技术参数 | 规格说明 |
|---|---|
| 分辨率 (Resolution) | M/D M ≈ 400 |
| 离子电流 (Ion Current) | 聚焦状态最高 20 μA；非聚焦状态最高 100 μA |
| 离子源（直流 DC） | 灯丝：16 V / 20 A；阳极：0–150 V / 0.4 A |
| 离子源（射频 RF） | 0–500 W，13.56 MHz |
| 透镜系统 (Lens System) | 加速电压：0–10 kV，1 mA；聚焦电压：0–10 kV，0.5 mA |
| 垂直偏转极板 (Vertical Deflection Plates) | 0–400 V，1 mA |
| 速度过滤器磁体 (Velocity Filter Magnet) | G-1：9.5 V / 3 A；G-2：28 V / 14 A（连续运行） |
| 速度过滤器偏转极板 (Velocity Filter Deflection Plates) | 0–350 V，50 mA（浮地输出） |
| 适用型号 (Model) | G-1、G-1-D、G-2、G-2-D |