产品概述
Beam Imaging Solutions (BIS) 推出新型 DCIS-100 离子源组件。该离子源为 Colutron 热阴极放电类型,与 G-1 型和 G-2 型离子枪系统配合使用。该离子源类似于 Colutron 氮化硼离子源(100 型)设计,但由高度耐用的氧化铝陶瓷 (Al2O3).与氮化硼源不同,DCIS-100 的初始放气时间以分钟为单位,而不是由于氮化硼的吸湿性而以小时为单位。氧化铝的机械耐久性也比氮化硼更高。DCIS-100 也比 Colutron 100-Q 型石英离子源更耐用,并且能够为更高电流的离子束提供更高的温度和阳极放电电流。现在可以在放电室中产生轴向磁场的新型 Colutron 型散热器上市。
离子源可作为完整组件(100 型)提供,带有离子源(DCIS-101 型)、插座法兰 (DCIS-102)、气三通和固体电荷座。DCIS-101 离子源也可单独提供,可插入标准 Colutron 插座法兰。也可提供带柱温箱的离子源。该烘箱用于蒸发高达 2000C 的固体材料。
传统的 Colutron 100-Q 型离子源和备件现在也可从 Beam Imaging Solutions 获得。许多部件,如细丝、阳极、接触线和源插座法兰,都可以在传统的石英和陶瓷版本之间互换。氮化硼版本的零件也可用。
技术信息
型 | DCIS-100、DCIS-101、DCIS-102、DCIS-103、DCIS-103-2 |
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离子源法兰 | 2.75“ Conflat, 型号 DCIS-102, 5 端子 带气体输入(1/4”) |
电源要求 | 阳极:250v,0.5A,灯丝:16V,20A |
烘箱离子源(温度高达 2000°C) | 烤箱电源要求:6V,12A |
DCIS-103 带螺线管磁场的散热器
DCIS-103 散热器与 Colutron 散热器类似,不同之处在于它也有一个螺线管磁铁线圈。磁场可用于改善等离子体中初级电离电子的限制,从而增强电离并改善束流。散热器有两个版本。标准版 DCIS-103 型有 2 层电线,在 10 安培时可以达到约 150 高斯。可选的 DCIS-103-2* 有 4 层电线,在 10 安培时可以达到 300 高斯。
* DCIS-103-2 需要一个专用类型的 Colutron 绝缘子法兰,以容纳螺线管的外径,约为 2.75 英寸。这种特殊的绝缘子可从 Beam Imaging Solutions(型号 DCIS-500)获得。
使用 DCIS-103 散热器和 Colutron 100 型离子源在 3keV 下增强质子 (H+) 离子束电流。使用 Colutron 型 G-1 离子枪对光束进行质量分离。FC-1 型法拉第杯用于测量距离离子枪出口 12 英寸处的束流。