Bay Carbon在生产用于化学气相沉积（CVD）工艺的高纯度等静压成型石墨基片方面拥有超过40年的经验。所有用于基片应用的石墨均采用贝碳公司专有的净化技术进行净化，并通过直流弧光光谱（DC Arc optical emission spectroscopy）测试，以确保其纯度符合半导体应用的要求。石墨基片产品还可以提供具有与化学气相沉积（CVD）硅化碳（SiC）保护涂层相匹配的热膨胀系数。每个涂有SiC的石墨基片都被包装在密封的无尘室兼容的塑料袋中，并且单独装在防护箱内运输。
贝碳公司专注于与客户合作，生产用于CVD基片的定制设计。基片可以设计用于CVD硅外延、III-V族外延和III-氮化物外延。请联系贝碳公司以了解您的基片需求。
贝碳公司（Bay Carbon Inc.）致力于研发项目的发展，以促进碳材料技术的进步。作为领先的石墨、石墨粉和石墨产品制造商，我们优先考虑提供技术，以改善客户的产品质量。我们目前的项目包括化学气相沉积（CVD）工艺和石墨烯技术的前驱体。
