瑞士IDONUS HF蒸汽相蚀刻机 VPE系列

VPE由反应室和盖子组成。盖子内集成了加热元件，用于控制待蚀刻基材的温度。晶圆夹紧有两种方式：晶圆可以通过使用夹紧环进行机械夹紧。螺钉从设备的背面拧入，始终与氢氟酸（HF）蒸汽保持隔离。三颗螺母易于在佩戴防护手套的情况下操作。另一种选择是静电夹紧。单片（长度超过10毫米）以及晶圆均可夹紧在加热元件上。晶圆的背面受到保护，避免蚀刻。

液体HF被注入反应室后，反应室用盖子封闭。在室温下生成HF蒸汽，蚀刻过程自发开始。蚀刻速率由晶圆温度控制，温度可调范围为35 °C到60 °C。处理后，酸可以储存在密封容器中的储液罐内以便重复使用。液体转移通过降低带手柄的连接储液罐来简单实现。由于重力作用，酸流入储液罐，并可以通过两个阀门关闭。通过打开阀门并提升手柄来重新填充反应室，酸会流入反应室。酸可用于多次蚀刻，直到需要更换为止。VPE系统占地面积小，易于集成到现有的流动箱中。

温控反应室（TRC）二氧化硅的蚀刻速率会随着反应室内液体HF的温度略有变化。HF的温度取决于洁净室的环境温度。此外，在长时间的蚀刻过程中，HF会升温，导致蚀刻速率从一个晶圆到另一个晶圆逐渐增加，直到系统稳定。为了稳定蚀刻速率，我们配备了一个具有温控液体HF的反应室。HF的温度可以通过额外的控制器进行调节。将HF酸加热到一个阈值温度以上，可以在蚀刻过程中保持温度稳定。