与热离子和热场发射器不同，CFE 在室温下工作。当响应强电场的应用而发射电子时，就会发生场发射。为了实现这个高场，单晶钨被蚀刻到显微镜下锋利的尖端。

CFE 是非常高亮度的光源，因此在需要高电流密度和可实现极高真空条件的应用中表现出色。

在 APT，我们在内部种植和加工自己的单晶钨。我们的蚀刻工艺可以根据客户的要求进行定制，并受到严格控制以保证质量和一致性。

APT 可以为 CFE 提供任何发射极基座/抑制器配置，包括 FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL 和定制配置。