美国 ARC 汞灯 Advanced Radiation Corporation 汞氙灯 DUV-350
Advanced Radiation Corporation 的光刻用深紫外 （DUV） 短弧灯系列代表了用于短波长紫外光刻胶曝光的高强度光源的设计、制造和性能的最新水平。
深紫外线辐射是由汞-氙等离子体产生的。在灯制造过程中，必须仔细控制等离子体成分的精确浓度和比例，以获得最大的输入功率以输出辐射转换。这里描述的八款 DUV 灯代表了与美国领先的 DUV 曝光设备和系统制造商三年多的研发成果。
这些灯非常适合多种 DUV 光刻胶配方。PMMA 在 210 至 260 nm 范围内敏感;从 200 到 330nm;AZ2400 系列，从 240 到 310nm;而 ODVR 系列在 200 至 315 nm 范围内敏感。
此类别中的产品：
DUV-350
DUV-500
DUV-1000
DUV-2000
DUV-350-30118
DUV-500-30036
DUV-500-30055
DUV-500-30056
