Applied Physics Technologies离子源,AP Tech CFE冷阴极,AP Tech冷场发射器
与热离子和热场发射器不同，CFE在室温下工作。当电子响应于强电场的施加而发射时，就会发生场发射。为了实现这种高场，单晶钨被蚀刻到显微镜下锋利的尖端。CFE是非常高亮度的光源，因此在需要高电流密度和可以实现极高真空条件的应用中表现出色。
在APT，我们在内部种植和加工自己的单晶钨。我们的蚀刻工艺可以根据客户的要求进行定制，并受到严格控制，以确保质量和一致性。APT可以为CFE提供任何发射极-基极/抑制器配置，包括FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL和自定义配置。
使用此图表可比较我们的 TE、CFE 和 TFE 离子源的一般操作要求和性能规格。
