美国Angstrom线性磁控管采用全封装专利设计，其梯度钕铁硼稀土磁体可将磁场均匀分布至整个靶材表面，从而显著提升靶材利用率，并最大限度减少靶面颗粒污染。此外，我们所有磁控溅射阴极均采用湍流冷却水路设计，实现高效热传递，有效避免因靶面局部过热导致的镀膜不均问题。结合一体化工艺气体入口、实心阳极壁等结构特性，以及前沿材料的应用，美国Angstrom线性磁控管可为您提供无与伦比的溅射工艺性能与可靠性。
随着越来越多行业认识到磁控溅射技术在速度、可控性及综合效益方面的优势，美国Angstrom正持续开发适配大规模、高速制造流程的优化解决方案。
规模化镀膜方案
针对超宽幅基材镀膜或极高产能需求的应用场景，线性磁控管提供了理想的在线连续生产解决方案。
全功率兼容性
低阻抗磁控管头支持射频、直流、中频直流、脉冲直流、高功率脉冲磁控溅射及微波电源的全面兼容。
ONYX线性磁控管
标准接口配置
我们可提供ISO NW标准接口、Conflat®金属密封法兰或定制O型圈密封法兰等多种安装方案。所有公用介质接口通常保持常压设计，并通过标准O型圈压缩管件连接，便于集成至各类真空系统。
经证实的卓越性能
这些磁控管提供了无与伦比的性能表现，正是这一优势使美国Angstrom成为行业标杆。其极低压运行与超高功率密度特性，能在任何应用场景中为您实现均匀性、靶材利用率和沉积速率之间的理想平衡。
