线性磁控溅射源
专利优势
Angstrom Sciences的线性磁控管采用全封装专利技术，通过特殊轮廓设计的钕铁硼稀土磁体将磁场均匀分布至整个靶面，显著提升靶材利用率的同时，最大限度减少靶面颗粒污染。所有磁控溅射阴极均采用湍流水流冷却技术，实现最优热传导效率，有效消除因靶面热点引起的工艺不均匀性。结合集成工艺气体入口、实体阳极壁等创新设计，以及尖端材料的应用，共同确保您的溅射工艺获得无与伦比的性能与可靠性。
线性磁控溅射源
行业革新动力
随着越来越多行业认识到磁控溅射技术在沉积速度、工艺可控性和综合效益方面的优势，Angstrom Sciences正持续开发新型设备，以满足更大规模、更高效率的现代化制造需求。
规模化解决方案
针对超宽基材镀膜及超高产能需求，我们的线性磁控管提供完美的在线式解决方案。
ONYX线性磁控管
全功率兼容性
低阻抗溅射头支持射频、直流、中频直流、脉冲直流、高功率脉冲磁控溅射HiPIMS及微波功率模式。
ONYX线性磁控管
标准化接口配置
可采用ISO NW标准接口、Conflat®金属密封法兰或定制O型圈密封法兰。所有公用设施接口通常保持常压状态，通过标准O型圈压缩接头连接，确保轻松集成至任何真空系统。
卓越性能验证
这些磁控管提供了无与伦比的性能表现，使Angstrom Sciences成为行业标杆。在极低工作压力和超高功率密度下的稳定运行，确保您在各类应用中实现均匀性、利用率和沉积速率的最佳平衡。
全方位尺寸定制
线性磁控阴极提供1英寸（25mm）至16英寸（406mm）的靶材宽度选择，长度最大可达185英寸（4700mm）。我们完全具备设计与制造定制化磁控管的能力，满足您的任何生产需求。
全程品质承诺
所有Angstrom Sciences磁控管均享受两年工艺与材料质量保证。作为我们的核心业务，我们始终致力于确保您的完全满意。
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