圆形磁控溅射源
Angstrom Sciences的圆形磁控管凭借Angstrom Advantage技术及多项创新设计，已成为溅射行业的性能标杆，为用户提供几乎无限的配置可能与工艺表现。
产品特色
多功能紧凑设计
紧凑型结构设计使我们的圆形磁控管既能适配新型真空系统，也能完美兼容改造项目，即使是最复杂的多阴极簇组装置与微型真空腔体也能应对自如。
全功率兼容性
低阻抗溅射头支持射频、直流、中频直流、脉冲直流、高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）及微波功率模式。
标准化接口
采用ISO NW标准接口与Conflat®金属密封法兰。所有公用设施接口均采用标准O型圈压缩密封设计，保持常压连接状态，可轻松集成至任何真空系统。
全尺寸覆盖
提供1英寸（25mm）至16英寸（406mm）标准尺寸圆形磁控溅射源，更大尺寸靶材可接受定制化配置。
快速靶材更换
小型圆形阴极采用专利螺纹靶材夹固定机构和阳极屏蔽罩设计，无需辅助工具即可完成靶材更换。内置可调节机构可直接适配不同厚度靶材，无需额外垫片。
低压强高功率运行
ONYX®磁控管可在极低压强环境下稳定运行（最低至10-4托范围），直接水冷设计可支持250瓦/平方英寸（30瓦/平方厘米）的连续工作功率密度。
高效沉积性能
更高功率密度可大幅提升基材镀膜速率。Angstrom Sciences磁控管在保持高速沉积的同时，既能扩大镀膜区域又能实现约40%的靶材利用率。
卓越均匀性
专利轮廓磁体设计使镀膜均匀性显著提升，常规工况下可达±1-3%的精度水平。
低污染特性
磁场均匀分布在整个靶面，有效减少颗粒污染物残留和再沉积现象造成的缺陷。
全方位质量承诺
所有Angstrom Sciences磁控管均享受两年工艺与材料质量保证。磁控管是我们的核心产品，我们始终致力于确保您的完全满意。
