等离子体分析与过程控制
PLASUS – EMICON光谱等离子体监测系统………工业与研发领域的过程控制
PLASUS是光谱等离子体监测系统的领先制造商。成立25年来，我们的核心竞争力是为工业与研发应用开发一站式过程控制系统。我们的系统广泛应用于等离子体监测、过程控制、工艺优化、质量控制及光谱等离子体分析。
凭借我们多年的经验和行业领先技术，我们将为您提供全方位服务，并为您的应用需求提供全面建议！
PLASUS EMICON系统是先进的等离子体分析与过程控制系统，可作为高速闭环工艺气体控制器，专为基于反应溅射的真空镀膜和等离子体处理工艺的实时原位精确控制而设计。这些系统完整、紧凑、灵活、使用便捷且经济高效，可轻松集成到新系统及现有系统中。无论是生产还是研发设备，过程流量控制器均能显著提升工艺稳定性、可重复性和成品率。系统提供多种配件，包括专为HIPMS溅射应用设计的传感器。
在工业等离子体应用中，过程控制对确保工艺可靠性和高质量至关重要。光学发射光谱（OES）技术因其不影响等离子体且可实时监测多种等离子体成分而成为首选技术。我们的PLASUS EMICON系统具备分析、优化和控制等离子体应用所需的全方位功能。
Angstrom Sciences在平面和圆柱形磁控管领域拥有丰富经验及市场领先地位，致力于为高性能反应溅射工艺提供最全面的行业性能与应用定制化设计整体解决方案。Angstrom Sciences还可提供现场工艺支持及流程系统集成服务，为客户提供硬件与完全集成的解决方案。具体选项及更多详情，请联系我们的销售团队。
系统特性：
宽带光谱采集
系统的宽带光谱仪模块可连续采集200至1100 nm范围内等离子体光发射的完整光谱。
等离子体发射实时监测
实时观测并追踪工艺相关等离子体粒子的光发射，实现对等离子体状态的持续监测，并即时响应变化。
工艺优化
通过系统对参数变化的即时响应，实时监测功能可优化等离子体工艺。
过程控制
提供模拟与数字输入输出接口，支持开环和闭环控制功能。此功能可用于终点检测或监测等离子体工艺条件与标准的偏差。集成的数字PID控制功能可直接应用于需要闭环控制的场景，如反应溅射应用中的气流控制或功率控制。
多通道系统
EMICON MC和EMICON SA系统最多支持8个独立光谱仪通道，可实现多腔室过程控制或反应溅射应用中的空间分辨气流控制。
工业环境便捷设置
系统所有组件均设计用于工业环境。适用于固定生产线的EMICON SA系统通过LAN接口管理，而EMICON MC系统的USB 2.0连接性使其成为多场景移动应用的首选。
工业现场总线接口与LAN API
EMICON SA型号可扩展PROFIBUS、PROFINET、EtherCAT或EtherNET/IP等工业接口，所有EMICON型号均支持LAN API，便于集成至客户应用中。
型号系列
EMICON系列涵盖多种应用类型：
EMICON SA：独立多通道系统，集成工艺单元，适用于生产线过程控制。
EMICON FS：快速光谱与电学等离子体监测系统，适用于HiPIMS或脉冲直流等脉冲应用。
EMICON MC：多通道标准系统，用于等离子体监测与过程控制。
EMICON HR：高分辨率光谱系统，用于精细等离子体分析与监测。
EMICON LC：光谱镀层控制系统，用于膜厚与颜色的原位监测与控制。
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