Angstrom Sciences磁控溅射、ONYX-Φlux等离子控制技术、靶面等离子控制技术

ONYX-Φlux等离子控制技术
Angstrom Sciences以其在磁控溅射应用领域的尖端技术享誉全球。我们最新开发的靶面等离子控制技术——ONYX-Φlux Control（通量控制系统），同时适用于平面和圆形磁控管，使用户能够精准优化薄膜均匀性或靶材利用率。

技术特性
均匀性控制
通过编程控制磁场在靶面特定位置的驻留时间，精确调控电磁场交叉点位置，实现刻蚀轮廓聚焦与均匀性微调。

材料利用率控制
以恒定速率驱动等离子体扫描靶面，平面对靶可实现高达65%的利用率（最大靶材厚度1.4英寸/35mm），大幅延长连续运行时间。

用户友好软件

• 直观的用户交互界面

• 三种操作模式：运行/编辑/手动

• 触摸屏技术

• 等离子体位置与驻留时间输入功能

全程品质承诺
Angstrom Sciences通过提供全球最先进的磁控管、高品质沉积材料及全面技术支持，助力客户实现高效经济的光学薄膜应用。我们以行业最长的两年质保期为所有磁控管提供质量保障，始终致力于确保您的完全满意。