PVD 或物理气相沉积材料包括一系列可用于制造薄膜涂层的材料。Angstrom Sciences 提供全面的高纯度真空沉积材料选择，包括上图所示。

影响物理气相沉积 （PVD） 沉积的薄膜的质量和功能的因素有三个：沉积源的质量和性能、沉积材料的特性和结构，以及沉积系统及其相关外围设备的内在性能和布局。Angsstrom Sciences 有能力并知道如何控制这三个主要因素中的两个。

从任何尺寸的溅射靶材到用于热/电子束蒸发的材料，Angstrom Sciences 能够为任何应用推荐和指导最合适的材料。在这些工艺中，并非所有材料都是等效的，因为原材料的化学成分只是稳健的、特定于应用的工艺的起点。杂质水平、晶粒尺寸、晶体结构/织构只是独特定制合适沉积结构结构的几个考虑因素。我们采用各种专业加工技术，如热压、冷压、热等静压 （HIP）、冷等静压 （CIP）、真空感应熔炼 （VIM） 和真空电弧铸造，生产出符合最严格应用标准的均质、细晶粒、高密度材料。我们所有的 PVD 材料都提供 NIST 可追溯的成分和杂质分析。

我们过去交付的材料清单;认识到这份清单只是触及了我们可以提供的作品的皮毛。在 Angstrom Sciences，没有订单太小或太大。定制成分没有最小批量要求，我们对客户服务的非凡关注令业界羡慕不已。我们通常为平面、圆形和圆柱形溅射靶材提供背板（铜、钼、铜铬），为溅射靶材冷却提供导电浆料和热转印箔，并且还提供键合服务，作为我们为 PVD 社区提供全面服务的一部分。