工艺流量控制器是高速闭环工艺气体控制器，设计用于对基于反应溅射的真空镀膜和等离子体处理工艺进行实时、原位精确控制。它们是完整、紧凑、灵活、使用方便且经济的解决方案，可以很容易地集成到新系统和现有系统中。同样适用于生产或研发工具的工艺流程控制器可以在工艺稳定性、可重复性和产量方面带来明显的改善。提供多种附件，包括专为 HIPMS 溅射应用设计的传感器。
过程控制在工业等离子体应用中至关重要，以确保过程的可靠性和高质量。在这里，直读光谱 （OES） 是首选技术，因为它不会影响等离子体，并且可以实时监测多种等离子体种类。我们的 PLASUS EMICON 系统具有分析、优化和控制等离子体应用所需的所有功能。
PLASUS 是光谱等离子体监测系统的领先制造商。我们的核心竞争力是开发用于工业和研发应用的交钥匙过程控制系统。我们的系统适用于等离子体监测、过程控制、过程优化、质量控制和光谱等离子体分析。
受益于我们多年的经验和领先的行业知识 – 我们将随时为您服务，并为您的应用提供全面的建议！
Angstrom Sciences 在平面和圆柱形磁控管方面拥有丰富的经验和领先的市场地位，使 Angstrom 处于领先地位，在提供完整的封装中提供最广泛的行业性能和应用特定设计，为高性能反应溅射工艺提供整体解决方案。Angstrom Sciences 还可以提供现场工艺支持和工艺流程系统集成，为我们的客户提供硬件和完全集成的解决方案。
系统特点：
宽带频谱采集
该系统的宽带光谱仪模块可连续采集 200 至 1100 nm 等离子体光发射的完整光谱。
实时监测等离子体发射
实时观察和跟踪工艺相关等离子体颗粒的光发射。这允许对等离子体条件进行连续监测，并立即实现变化。
流程优化
实时监控能够利用系统对参数变化的即时响应来优化等离子体工艺。
过程控制
模拟和数字输出和输入可用于安装开环和闭环控制功能。例如，此功能可用于终点检测或监测与标准等离子体工艺条件的偏差。集成的数字 PID 控制功能可直接访问需要闭环控制的应用，例如反应溅射应用中的气体流量控制或功率控制。
多通道系统
EMICON MC 和 EMICON SA 系统最多可配备 8 个独立的光谱仪通道。例如，在反应溅射应用中，可以实现多腔室工艺控制或空间分辨气体流量控制。
易于设置，适用于工业环境
系统的所有部分都设计为在工业条件下工作。用于固定生产线的 EMICON SA 系统由 LAN 接口管理。EMICON MC 系统的 USB 2.0 连接使该系统成为不同应用中移动使用的首选。
工业接口 PROFIBUS 和 LAN
所有 EMICON 型号都可以通过工业接口 PROFIBUS 和 LAN 进行扩展，以便轻松集成到工业应用中。
类型系列
EMICON 系列分为几个，可满足不同的应用类型：
EMICON MC：用于等离子体监测和过程控制的多通道标准系统。
EMICON SA：带有集成过程单元的独立系统，用于生产线中的过程控制。
EMICON HR：用于详细等离子体分析和等离子体监测的光谱高分辨率系统。
