美国Angstrom Sciences,ONYX® 磁控管,圆磁控管,高功率脉冲磁控溅射
Angstrom Sciences， Inc. 成立于 1988 年，为高质量薄膜的等离子体气相沉积提供先进的磁控管和精制材料。该公司非常注重研发，很快就为磁性、水冷和圆形磁控管目标夹紧设计方面的多项技术进步申请了专利。Angstrom Advantage™ 的特点创造了薄膜行业中最先进、最易于使用的磁控管。
高功率脉冲磁控溅射
高功率脉冲磁控溅射 （HIPIMS） 或高冲击功率磁控溅射是通过利用高度可控的电源系统实现的，这些系统可以向溅射靶材提供短时间的高电流密度脉冲。
Angstrom Sciences 开发了一系列溅射阴极，能够维持大于 1500 Watts/in2 的连续脉冲功率密度。Angstrom Sciences 的高功率脉冲磁控溅射阴极在阳极体和阀杆安装中集成了两个额外的冷却通道，以在工艺操作期间保持最佳冷却。
可以提供各种磁体阵列等其他功能，包括自动可调设计，以在目标寿命期间保持目标表面的磁场强度一致。
- 描述
HPP 设计中的磁性布置专门针对高功率磁性应用进行了优化。高功率脉冲磁控管直接冷却，有圆形、线性和圆柱形设计。
