凭借独特的Angstrom 优势（Angstrom Advantage™）及一系列创新设计特性，Angstrom Sciences的环形磁控管已成为溅射行业的标杆产品。这些设计赋予其在结构配置与工艺性能方面近乎无限的可能性。
设计紧凑，用途广泛
凭借紧凑的结构设计，我们的环形磁控管既适用于任何新设备安装，也便于现有设备改造升级，甚至能适配最复杂的集群组装系统及空间最受限的真空腔室。
全功率兼容性
低阻抗磁控管设计支持射频、直流、中频直流、脉冲直流、高功率脉冲磁控溅射及微波电源的全面兼容。
标准接口配置
我们采用ISO NW标准接口及Conflat®金属密封法兰。所有公用介质（水/气）接口均保持常压设计，并通过标准O型圈压缩管件连接，可轻松适配各类真空系统。
全尺寸覆盖
环形磁控溅射源提供从1英寸（25毫米）至16英寸（406毫米）及更大尺寸的靶材直径选项，支持标准配置与定制化设计。
快速便捷的靶材更换
我们的小型环形阴极采用专利螺纹靶材夹具和阳极屏蔽罩设计，无需辅助工具即可完成靶材更换。其内置可调结构还能适配不同厚度的靶材，无需额外垫片装置。
低压运行，高功率输出
ONYX®系列磁控管可在极低压力环境下运行（最低至10⁻⁴托范围），其直接冷却设计可持续提供高达250瓦/平方英寸（30瓦/平方厘米）的功率密度。
高效率与高性能
更高的功率密度可加速基材镀膜进程。美国Angstrom的技术方案能同步优化您的镀膜区域与靶材利用率（通常可达40%左右），且无需以牺牲沉积速率为代价。
卓越的均匀性
得益于我们的专利梯度磁场设计，我们的磁控管能够实现更高的镀膜均匀度——通常可控制在±1-3%的范围内。
低污染特性
由于磁场均匀分布在整个靶材表面，颗粒污染和再沉积造成的缺陷被降至最低。
