箱式涂布机 PVD 平台
箱式涂布机是一种灵活的、与洁净室兼容的涂布平台，能够大批量生产 100 毫米至 1200 毫米的基板和/或批量生产较小的部件。其外形尺寸提供了出色的膜厚均匀性，并为先进的夹具选项提供了充足的空间。所有箱式涂布机平台配置都能对膜厚不均匀性、材料产量和产量进行主动建模和校正。
可定制的底板和尺寸，Box Coater PVD（物理气相沉积）平台是适应各种来源、工艺和基底固定解决方案。根据研究目标、生产需求和/或应用最终目标决定箱式镀膜机的装备。适合各种应用，包括金属化、光学镀膜、传感和铟凸点键合制造。
沉积源选项
溅射
射频、直流、脉冲直流、HIPIMS 和反应式。可提供圆形、线形和圆柱形阴极。
热蒸发
可使用各种舟形、丝状和坩埚加热器。自动调整功能可确保精确的速率控制。
电子束蒸发
提供多种源功率和电源选项。通过 Aeres 软件平台控制带有配方存储功能的可编程扫频控制器。扭矩感应坩埚分度器可检测坩埚袋堵塞情况。Nexdep 室可容纳多个电子束源。
等离子和离子束处理
使用一系列离子源进行清洗和薄膜增强，包括辉光放电等离子清洗。
