NEBULA CLUSTER集成真空系统
Angstrom在自动化、工程精度、用户控制上经验丰富，这些NEBULA CLUSTER集成真空系统专为满足客户的工艺要求而设计。真空模块的数量和类型由客户选择，并为未来的扩展潜力提供了空间。
带有多个真空室和内衬箱的簇式物理气相沉积系统
Nebula Cluster 集成真空系统有着PVD、CVD、ALD、掩膜和停放转移、带加热/冷却功能的平台、辅助清洁源、可变角度沉积等技术模块。此外，Nebula Cluster 集成真空系统还包括一个连接所有设备的中央机器人中枢，所有设备均由集成式简单易用的配方驱动软件控制。
工艺模块选项
使用等离子或离子束源进行基底清洁和制备
多种真空沉积模块可用于 PVD、CVD、ALD 以及量子系列等重点应用模块
基底和掩膜存储盒可根据需要容纳 25 个或更多样品盘
使用 SCARA 机械手的分配模块尺寸可根据需求选择
内衬箱环境可集成到一个或多个模块中
基板尺寸/产量
适用于标准半导体晶片外形尺寸以及典型显示器玻璃的模块，包括适用于第 2 代（360 毫米 x 465 毫米）及更大尺寸的模块。
产量取决于制程持续时间和复杂程度。不过，AERES 软件平台优化了层与层之间的转换，从而缩短了整体制程时间。
