德国AMMT HF气相蚀刻机由反应室和加热晶片架以及电子控制单元组成。氢氟酸蒸汽是从反应池底部的一个小储液器被动产生的。只需要约60-80ml的液体氢氟酸。HF Vapor Etcher Basic非常适合表面微加工、SOI-MEMS、无切割释放、结构减薄和许多其他应用的研发工作。
在使用氢氟酸时，安全是一个重要问题。AMMT的工程师设计了这种易于使用、直接的蚀刻系统，具有最大的安全性，包括特殊的处理工具和蚀刻机周围的安全容器，以防溢出。所有与液态氢氟酸接触的部件都可以很容易地拆卸和清洁。
随系统提供的AMMT控制单元允许精确加热（典型值±0.2°C），并具有一个集成定时器来控制蚀刻过程。
