瑞士idonus sàrl 具有双图像显微镜的掩模对准系统 MAS + DIM 系列
具有双图像显微镜的掩模对准系统
MAS + DIM
掩模对准器被设计用来精确对准掩模与基板。例如，使用遮光掩模可以实现无光刻的薄膜沉积。一旦晶圆在掩模下对准，两个基板将被夹在双夹具中。夹紧的双夹具与基板可以被插入物理气相沉积室进行蒸发。沉积完成后，双夹具将被分开，基板可以取出。 除了遮光掩模外，Idonus 掩模对准器还具有广泛的应用，例如： - 遮光掩模 - 紫外光掩模 - 纳米压印 - 粘接对准简易性
具备真空夹持能力和三轴手动对准功能，使得这款掩模对准器非常易于使用。灵活性
该对准器设计用于多种晶片尺寸和形状，无论是标准还是非标准。idonus 根据您的需求定制夹具。精准度
结合显微镜，可以实现最小 ± 5 微米的对准公差。idonus 提供自己的双影像显微镜用于对准控制。用户可以同时聚焦和观察两个对准位置，以简化对准过程。Mask Alignment System (MAS )
Double Image Microscope (DIM )
使用idonus双影像显微镜（DIM）可以实现精确的 ± 5 微米对准。对准过程通过两台摄像头在电脑上监控。该设备设计用于与我们的掩模对准器结合使用（即MAS+DIM系统），但它也可以作为独立设备使用。询价采购瑞士idonus sàrl 具有双图像显微镜的掩模对准系统 MAS + DIM 系列
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