qX3 帕尔贴温控支架，用于荧光光谱，温度范围0°C到110°C

Quantum Northwest qX3帕尔贴温控支架是一种温度控制的样品池支架，有三个光学端口，主要用于荧光光谱分析。qX3帕尔贴温控支架是最便宜的型号，可完全由客户来安装和改装完。使用qX3帕尔贴温控支架来设置和保持精确的样品温度，并以稳定的可重复速率搅拌，同时在受控气体环境中清洗反应杯。尽管依赖于快速、精确的帕尔贴技术，但在0°C到110°C的正常运行不需要循环水。可选的低温选件，包括带窗护套和液体冷却能力，可将qX3帕尔贴温控支架从0°C降到-35°C。购买扩展温度选项，可将操作扩展至110°C至+150°C。对于额外的控制和温度监控，请使用Quantum Northwest的计算机控制软件T-App（可选件）。

qX3帕尔贴温控支架产品特点； 三个光学端口帕尔贴控制可得到快速精确地控制温度变化精密步进电机驱动磁力搅拌提高温度稳定性的盖子用于安装窗口或过滤器的螺纹插入件光学狭缝夹控制照明体积可在极端温度下使用带窗护套低温作业用干气吹扫样本温度探头输入 NIST可追踪温度校准

qX3帕尔贴温控支架技术参数：控制的比色皿数量：1 典型用途：荧光标准反应杯尺寸（外部）：12.5 mm x 12.5 mm 每个反应杯的光学端口：3 光学端口尺寸：12 mm高x 10 mm宽反应杯z-高度：15 mm 带窗护套可用：是出厂设定温度范围：-40°C至+110°C 温度范围可实现：-5°C至+110°C 低温范围选项：-35°C至+110°C 扩展温度范围选项：-35°C至+150°C 温度精度：±0.02°C 可接受的热敏电阻探头：探头/QNW3 磁力搅拌电动机类型：步进式磁搅拌速度范围：1-2500转/分默认搅拌转速：1200转/分搅拌速度最佳性能：60-1800转/分