Beam Imaging Solutions BOS-75电子束观察系统
Beam Imaging Solutions BOS-75电子束观察系统
在标准形式中，BOS-75 型光束观测系统具有直径为 75 毫米的有效区域 MCP 和 P-43 荧光屏组件，连接到带玻璃视口的 8.00 英寸（203 毫米）同平法兰上。荧光屏和 MCP 的电气连接通过 MHV 馈通件进行。 这些产品选项卡详细讨论了可选配置，包括双 MCP 板（V 形）、SHV 馈入件和 CCD 相机系统。Beam Imaging Solutions BOS-75电子束观察系统技术信息
| 成像区域 | 直径 75mm |
|---|---|
| MCP（标准） | 3.410 英寸直径 （BOS-75），25 微米通道直径，检测或成像级，75 毫米有效面积，32 微米间距，8° 偏置角，40：1 纵横比（标准，BOS-75），最小增益：1 x 10^4（单板，标准）1000V > 107（V 形，OPT-01），2000V |
| 荧光屏（标准） | P-43 带铝涂层。P-43 峰值波长：λ= 545 nm。 |
| 电源要求 | 0 – + 1000V，1mA 单 MCP（标准），0 – + 2000V，1mA 双 MCP（选件 01），0 – + 5000V，1 mA 荧光屏 |
| 光束能量范围 | 1 eV 至 50 keV 以上 |
| 束流范围 | < 10 μA（带可选的光束衰减格栅） |
| 真空 | 运行 MCP 需要 1 x 10-6 Torr 或更高温度，兼容 UHV，最高烘烤温度 300 C |
| 焊接玻璃窗（标准） | 焊接到法兰上的不可拆卸玻璃窗是标准配置。这允许烘烤温度> 200C。 |
Beam Imaging Solutions BOS-75电子束观察系统可选设备
双 MCP 系统、MCP 涂层和 MCP 类型：
- BOS-75 型，带 BOS-75-OPT-01 双 MCP 选项
- 带有可选涂层的 MCP，用于增强紫外线和 X 射线（KBr、CsI、Cu、CuI、MgO、Au、MgF2）的成像
- 具有高增益和分辨率的 MCP
- 具有匹配特性阻抗的 MCP
荧光屏
- P-43 是标准配置，但也有其他荧光粉可供选择，包括 P1、P11、P15、P20、P22、P24、P31、P45、P46、P47、P48 和 P53。有关更多信息，请参阅我们的荧光粉屏蔽页面。筛网具有标准的铝制涂层，但也提供铟锡氧化物 （ITO） 底涂层。
- 独立的 MCP/荧光粉组件 （IDA）（可选）
- BOS-75 使用的 MCP/荧光屏组件可单独购买。
相干光纤窗口（可选）
将光纤面板用于真空窗口相当于零厚度窗口的光学等效物。荧光粉涂覆在光纤窗口的真空侧面。在荧光粉表面创建的图像通过窗口的光纤传输到窗口的前表面（空气侧），以便通过肉眼或可安装的相机系统轻松查看图像。这种设计允许移除荧光屏并重新涂覆或更换为不同类型的荧光粉，而无需移除 MCP 组件。
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