
美国 Nonsequitur Technologies,离子枪,电能 < 10kV,1407 型,高电流密度光斑
美国 Nonsequitur Technologies,离子枪,电能 < 10kV,1407 型,高电流密度光斑
离子枪
NTI 离子枪用于材料研究、表面分析和太阳风模拟等应用。它们是按订单制造的,我们很乐意根据您的需求定制系统。
电能 < 10kV,1407 型:高电流密度点光源
离子枪 型号 1407
高电流密度光斑
Nonsequitur Technologies 1407 型离子枪具有来自传统电子碰撞电离源的双等离子加速器级性能。应用包括俄歇或 SIMS 深度剖分,其中需要一个小凹坑以避免损坏相邻样品区域,以及 TEM/SEM 样品制备。可达到的非常高的刻蚀速率也允许该色谱柱用于厚膜和微观结构的切片
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独特的离子源,发射稳定
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双钨合金细丝
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UHV 结构
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电源和偏转电源集成在一个 51/4 19“ 机架安装中
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电气连接和进气口均位于外壳后部,简化操作
元件
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描述
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光束能量
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5eV 至 5000eV 连续可变
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束流
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最大 20μA @ 5keV 束能量
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光斑尺寸 (FWHM)
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15μm @500nAkeV、20μm @2μA、75μm @20uA、5kV、10mm W.D.
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电气
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115/220V 50/60Hz 自动选择
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法兰
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4.50 或 6.00 CFF 用于安装,2.75CFF 泵送,1.33 (34mm) CFF 进气口。
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