瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列 Idonus UV-EXP系列提供了一种创新的紫外线照明系统,该系统基于高功率led和高级均化光学器件的使用。该产品线应用于光刻胶曝光(UV-LED光刻和固化),适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种衬底和光刻胶。我们的标准紫外线照明产品系列解决了300毫米(11.8英寸)宽的掩模和晶片的光刻需求。系列提供了一种创新的紫外线照明系统,该系统基于高功率led和高级均化光学器件的使用。该产品线应用于光刻胶曝光(UV-LED光刻和固化),适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种衬底和光刻胶。我们的标准紫外线照明产品系列解决了300毫米(11.8英寸)宽的掩模和晶片的光刻需求。

为什么选择LED技术?

直到最近,汞弧灯是唯一能够提供适用于UV光刻曝光的高强度光的光源。由于LED技术的进步,UV-LED已经成为危险且耗能的汞灯的非常有吸引力的替代品。 除了生态和安全方面,与传统的汞灯相比,UV-led的技术优势对于光刻来说是众多且重要的。紫外发光二极管的一个最大优点是,它们在很长的寿命内以一致的发射工作。因此,不需要日常校准和维护。此外,由于能效更高,led减少了发热,从而大大简化了系统冷却。 值得注意的是,发射365纳米、405纳米和435纳米(峰值波长)的发光二极管可以组合起来模拟汞弧灯的UV-A光谱(i-lineh线g线汞元素的特征峰),可以看出在这个图表中

UV-LED曝光的好处

idonus UV-LED曝光系统

idonus推出了完整的UV-LED曝光产品系列。我们的系统集成了市场上最有效的UV-led和高级微透镜阵列。它们完全在内部组装和控制。我们的设计采用了全远心光学系统,可在整个曝光区域提供可重复且均匀的照明条件具有非常小的发散角的高度均匀和稳定的强度。这种尖端光学器件确保整个基板完全均匀曝光,产生具有直侧壁的固化光刻胶,并实现具有微米临界尺寸的图案的精确微结构。
Model Wavelength Useful exposure area Irradiance, Ee Non-uniformity, C * αFWHM WD ** External dimensions, mm³
@385/395/405 nm @365 nm (lamphouse only) (complete system)
UV-LAB100R 365 nm Ø 100 mm 12 mW/cm² 5% ±2° 250 mm 200×250×400 250×300×670
UV-EXP150R 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm Ø 150 mm 50 mW/cm² 40 mW/cm² 3% ±1.8° 350 mm 610×305×250 1000×480×330
UV-EXP150S 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm 150×150 mm² 50 mW/cm² 40 mW/cm² 3% ±1.8° 300 mm 600×360×300 960×500×420
UV-EXP200R 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm Ø 200 mm 30 mW/cm² 25 mW/cm² 3% ±1.4° 400 mm 730×415×360 1170×570×530
UV-EXP200S 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm 200×200 mm² 30 mW/cm² 25 mW/cm² 3% ±1.4° 400 mm 730×415×360 1170×570×530
UV-EXP300S-1LE 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm 300×300 mm² 17 mW/cm² 13 mW/cm² 3% ±1.0° 300 mm 920×560×510 1270×715×700
UV-EXP300S-3LE 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm 300×300 mm² 50 mW/cm² (3 LEDs) 40 mW/cm² (3 LEDs) 3% ±2.5° 300 mm 920×560×510 1270×715×700
UV-EXP600S 365 and/or 385 / 395 / 405 / 435 nm 600×600 mm² 30 mW/cm² (multiple LEDs) 20 mW/cm² (multiple LEDs) 3% ±2.0° 300 mm 1500×1100×900 ***

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瑞士idonus UV-LED曝光系统UV-EXP系列

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