波兰 PREVAC, 沉积系统, 磁控溅射系统 032 PRIMS ,basic MS 系统

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032 PRIMS 基础型 MS 系统

简单且功能齐全的溅射沉积装置，用于可重复的薄膜层应用。 即插即用的紧凑设计。  工艺腔室包含 3 个磁控溅射源端口（用于金属和无机物），安装在溅射配置中。最多可同时使用两个源（共沉积）基板阶段适用于直径高达2英寸的样品，具有加热和旋转选项。 

 

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