ALLRESIST GmbH AR-P5480---1000L 光刻胶

Kind of resist：AR-P5480 Do/μm 4000 rpm： 0,5 Type：positive Characteristic properties：two-layer lift-off with AR-P 3510 Application：vapour phase patterns Resolution [μm]：1,5 Contrast：lift-off Exposure：i-line,g-line,BB-UV Thinner：600-07 Developer：300-47
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