美国Angstrom Sciences,ONYX® 磁控管,HiPIMS – 磁控溅射 Angstrom Sciences， Inc. 成立于 1988 年，为高质量薄膜的等离子体气相沉积提供先进的磁控管和精制材料。该公司非常注重研发，很快就为磁性、水冷和圆形磁控管目标夹紧设计方面的多项技术进步申请了专利。Angstrom Advantage™ 的特点创造了薄膜行业中最先进、最易于使用的磁控管。

HiPIMS – 磁控溅射

Angstrom Science 为其圆形和线性磁控管产品线开发了解决方案，允许磁场离散变化（通过内部安装阴极的可互换磁体组）或连续变化（通过外部安装阴极上的磁体组高度调整）。 HIPIMS 磁控管用于涂层沉积和具有高微观结构密度的薄膜沉积前对基材进行预处理。

• 描述

HIPIMS 溅射是高功率脉冲磁控溅射的缩写。脉冲溅射的这一相对较新的进展使用非常高功率、短持续时间的脉冲来产生等离子体并电离大部分溅射原子。 事实证明，精确控制靶材表面的磁场强度对于 HIPIMS 工艺对于减少电弧和优化溅射材料的电离至关重要。   有关 HIPIMS 磁控管或 Angstrom Sciences 如何帮助您的业务的更多信息，在线联系我们。

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